低压化学气相沉积室SolidWorks设计
三维建模软件:SolidWorks 一款低压化学气相沉积室的3D模型,有stp等格式的图纸。LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Depositio
n低压力化学气相沉积法广泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积,过程在管炉中执行,要求也相当高的温度。
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作品编号: 157128
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