三维建模软件:SolidWorks
一款低压化学气相沉积室的3D模型,有stp等格式的图纸。LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Depositio
n低压力化学气相沉积法广泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积,过程在管炉中执行,要求也相当高的温度。
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n低压力化学气相沉积法广泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积,过程在管炉中执行,要求也相当高的温度。
作品编号:
157128
文件大小:
9.84MB
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10
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