RTP快速退火炉操作便捷,快速退火炉电热元件采用红外灯管,升温速度快,节省时间,滑动法兰使装卸样品过程简化,方便操作,可快速得到实验结果,取消了反复的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成的损坏。
RTP快速退火炉产品用途:
此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、Z
nO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
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nO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
作品编号:
188910
图纸版本:
Solidworks2017
可否编辑:
可编辑,包含特征参数
文件大小:
145.41MB
下载积分:
1500
文件统计:
三维模型文件68个
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