扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90
nm、110
nm、280
nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。