本设备为某企业全自动晶圆显影机，该设备是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备，包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。匀胶显影机一般由四部分组成。第一部分是晶圆盒工作站（wafer cassette statio
n），晶圆盒在这里装载到机器上。机械手（robot arm）从晶圆盒中把晶圆抽出来，传送到工艺处理部分（process block），即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体，增粘模块（adhesio
n e
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nt）、热盘（hot plate）、冷盘（chill plate）、旋涂、显影等主要工艺单体都安装在这里，一个或两个机械手在各单体之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单体，包括晶圆表面水冲洗单体、背清洗单体等。第四部分是和光刻机联机的接口界面（i
nterface），包括暂时储存晶圆的缓冲盒（buffer）、晶圆边缘曝光（wafer edge exposure，WEE）和光刻机交换晶圆的接口等。本模型建模精巧，为专业人员设计，水平很高，可供大家探讨学习！