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半导体晶圆清洗设备三维Step
by
机械设计2023
晶圆清洗是
半导体
制造工艺中最重要、最频繁的工序,并且随着尺寸的缩小、结构的复杂化,晶圆对杂质含量的敏感度也相应提高。清洗质量的好坏将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性。
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作品编号:
383255
图纸版本:
通用文件格式,大部分三维软件都可以打开
文件大小:
206.68MB
下载积分:
1800
文件统计:
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